HOME > 口頭発表 > 書誌詳細HfO2基強誘電体の相安定性と厚膜化(Preparation of thick HfO2 film through considering phase stability)清水 荘雄, 三村 和仙, 舟窪 浩. 第4回元素戦略シンポジウム. 2020年02月03日-2020年02月04日.NIMS著者清水 荘雄Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2020-08-05 03:00:18 +0900 更新時刻: 2020-08-05 03:00:18 +0900