HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Si・O2拡散によるフェルミレベルピニング抑制のための界面層材料の特性評価(Evaluation of interface layer for restraint of Fermi level pinning by Si and O2 diffusion)岩下 祐太, 足立 哲也, 伊高 健治, 知京 豊裕, 小椋厚志. 日本電子材料技術協会第45回秋期講演大会. 2008.NIMS著者知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:55:59 +0900更新時刻: 2018-06-05 12:23:09 +0900