Si・O2拡散によるフェルミレベルピニング抑制のための界面層材料の特性評価
(Evaluation of interface layer for restraint of Fermi level pinning by Si and O2 diffusion)
日本電子材料技術協会第45回秋期講演大会. 2008-11-14.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:55:59 +0900 更新時刻: 2018-06-05 12:23:09 +0900