HOME > Presentation > Detail
Si・O2拡散によるフェルミレベルピニング抑制のための界面層材料の特性評価
(Evaluation of interface layer for restraint of Fermi level pinning by Si and O2 diffusion)
日本電子材料技術協会第45回秋期講演大会. 2008-11-14.
NIMS author(s)
Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-01-08 04:55:59 +0900 Updated at: 2018-06-05 12:23:09 +0900