Design of Ferroelectric HfxZr1−xO2 Thin Films and Interfaces Formation Process by Using Atomic Layer Deposition
249th ECS Meeting. 2026年05月24日-2026年05月28日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2026-07-31 03:07:56 +0900 更新時刻: 2026-07-31 03:07:56 +0900