オペランド光電子分光法による極薄酸化膜/Si界面の界面準位測定
(Interface States at Ultrathin-oxide/Si Interface Obtained from Operando Photoelectron Spectroscopy )
第25回日本MRS年次大会. 2015.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 05:01:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:18:10 +0900