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著者名FUKATA, Naoki, Shinya Fukuda, Shuntaro Sato, ISHIOKA, Kunie, KITAJIMA, Masahiro, HISHITA, Shunichi, Kouichi Murakami.
タイトルPassivation and reactivation of carrier in B- and P-doped Si treated with atomic hydrogen
(水素処理によるBおよびPドープシリコン中のキャリアの不活性化と再活性化)
会議名24th International Conference on Defects in Semiconductors
発表年2007
言語English
外部での文献参照

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