水素処理によるBおよびPドープシリコン中のキャリアの不活性化と再活性化
(Passivation and reactivation of carrier in B- and P-doped Si treated with atomic hydrogen)
24th International Conference on Defects in Semiconductors. 2007.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 10:55:35 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:56:57 +0900