HOME > 口頭発表 > 書誌詳細リソグラフィー後のグラフェンおよびh-BNの清浄化(Cleaning of Graphene and h-BN Surfaces after Lithography Process)マカロバ マリナ, ベルベニオティス エリシオス, 中払 周, 谷口 尚, 大川 祐司, 青野 正和. EM-NANO 2015. 2015.NIMS著者ベルベニオティス エリシオス谷口 尚青野 正和Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:24:10 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:08:53 +0900