スパッタリング法によるMnSバッファー層を用いた無極性AlN薄膜成長
(Non-polar AlN growth on Si (100) substrate with MnS buffer layer deposited by sputtering)
MANA Symposium. 2019年03月04日-2019年03月06日.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-07-24 03:00:20 +0900 更新時刻: 2019-07-24 03:00:20 +0900