HOME > 口頭発表 > 書誌詳細金属/Y203界面における低温化学反応:誘電緩和による評価(Low temperature chemical reaction at metal/Y2O3 interface: Evaluation by dielectric relaxation)石井 真史, 中尾愛子, 櫻井 健次. 2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会. 2008年03月27日-2008年03月30日.NIMS著者石井 真史Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:40:17 +0900 更新時刻: 2017-07-10 20:11:04 +0900