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分子線酸素ビーム照射下その場観察XPSによる GaN表面酸化の面方位依存性

著者浅井 祐哉, 関慶祐, 吉越章隆, 隅田真人, 上殿明良, 石垣 隆正, 角谷 正友.
会議名第79回応用物理学会秋季学術講演会
発表年2018
言語Japanese

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