分子線エピタキシー法により作製したScN薄膜のSc/N比依存性
(Sc/N flux ratio dependence of the ScN films prepared by molecular beam epitaxy)
STAC-9&TOEO-9. 2015年10月19日-2015年10月21日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-14 11:37:18 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:11:48 +0900