軌道暴露により生成された酸化珪素膜
(Silicon oxide layer prepared by orbit exposure test)
第52回真空に関する連合講演会. 2011年11月16日-2011年11月18日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:12:08 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:13:07 +0900