HOME > 口頭発表 > 書誌詳細軌道暴露により生成された酸化珪素膜(Silicon oxide layer prepared by orbit exposure test)土佐 正弘, 笠原 章, 後藤 真宏. 第52回真空に関する連合講演会. 2011.NIMS著者土佐 正弘笠原 章後藤 真宏Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-01-08 04:12:08 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:13:07 +0900