ALD-ZrO2核生成層を用いた強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の形成技術と そのMFS構造への応用
(Fabrication technique of ferroelectric HfxZr1−xO2 thin films using ALD-ZrO2 nucleation layers and its application to MFS structures)
2024年 第71回応用物理学会春季学術講演会. 2024年03月22日-2024年03月25日. 招待講演
NIMS著者
_%E5%A5%B3%E5%B1%8B%E5%B4%87.jpg)
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2024-05-21 03:12:36 +0900 更新時刻: 2024-05-21 03:12:36 +0900