HOME > 口頭発表 > 書誌詳細HIGH-RATE GROWTH OF HIGH-QUALITY MICROCRYSTALLINE SILICON FILMS FROM PLASMA BY INTERCONNECTED MULTI-HOLLOW CATHODENIIKURA, Chisato. Fifth Asian-European International Conference on Plasma Surface . 2005年09月12日-2005年09月16日. 招待講演NIMS著者新倉 ちさとMaterials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 11:44:05 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:40:47 +0900