ガス加熱トライオードプラズマCVD法によるSi表面パシベーション
(Si surface passivation by triode-type plasma-enhanced CVD with thermally-energized film-precursors)
第65回応用物理学会春季学術講演会. 2018.
NIMS著者
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作成時刻: 2018-04-11 22:38:38 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:19:38 +0900