HOME > Presentation > Detailガス加熱トライオードプラズマCVD法によるSi表面パシベーション(Si surface passivation by triode-type plasma-enhanced CVD with thermally-energized film-precursors)新倉 ちさと, 宮島 晋介. 第65回応用物理学会春季学術講演会. March 17, 2018-March 20, 2018.NIMS author(s)NIIKURA, ChisatoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2018-04-11 22:38:38 +0900Updated at: 2018-06-05 14:19:38 +0900