フラッシュメモリにおけるトンネル層界面の硬Ｘ線XPS解析
(Interface Structure of Tunnel Oxynitride for Flash Memory Studied by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy)
International Workshop on Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy. 2006年09月19日-2006年09月20日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:12:34 +0900 更新時刻: 2017-07-10 19:46:04 +0900