HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Si implantation effect on diffusion in oxide crystals)坂口 勲, 羽田 肇, 菱田 俊一, 三橋 武文. 材料化学国際シンポジウム. 2002-03-13.NIMS著者坂口 勲Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:00:32 +0900 更新時刻: 2017-07-10 18:58:03 +0900