HOME > 口頭発表 > 書誌詳細埋もれた界面の化学反応を利用した電子デバイスへのX線反射率測定の応用(Application of x-ray reflectivity measurement to electronic devices using chemical reaction at "buried" interface)石井 真史. 埋もれた界面のX線・中性子線に関するワークショップ2007. 2007. 招待講演NIMS著者石井 真史Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:23:04 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:41:35 +0900