HOME > Presentation > Detail埋もれた界面の化学反応を利用した電子デバイスへのX線反射率測定の応用(Application of x-ray reflectivity measurement to electronic devices using chemical reaction at "buried" interface)石井 真史. 埋もれた界面のX線・中性子線に関するワークショップ2007. July 22, 2007-July 24, 2007. InvitedNIMS author(s)ISHII, MasashiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:23:04 +0900Updated at: 2024-03-05 11:41:35 +0900