反応性スパッタ法を用いたエピタキシャルAlN膜の成長条件の検討
(Growth condition optimization of epitaxial AlN film deposited by reactive sputtering)
STAC-10. 2017.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-07-29 22:52:14 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:11:22 +0900