HOME > Presentation > Detail反応性スパッタ法を用いたr面サファイア基板上無極性AlN薄膜作製条件の検討立島滉大, 長田貴弘, 石橋啓次, 高橋健一郎, 鈴木摂, 小椋厚志, 知京豊裕. 第23回電子デバイス界面テクノロジー研究会. 2019.NIMS author(s)TATEJIMA, KotaNAGATA, TakahiroCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2019-07-13 03:00:19 +0900Updated at: 2019-07-13 03:00:19 +0900