ALD-Al2O3成長におけるAl2O3/基板界面の解析
(Study of Al2O3/substrate interface during ALD-Al2O3 growth)
第28回シンポジウム「アトミックレイヤープロセッシングの基礎と最新. 2018. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2018-05-09 22:11:42 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:20:37 +0900