HOME > Presentation > DetailALD-Al2O3成長におけるAl2O3/基板界面の解析(Study of Al2O3/substrate interface during ALD-Al2O3 growth)生田目 俊秀. 第28回シンポジウム「アトミックレイヤープロセッシングの基礎と最新. 2018-06-04. InvitedNIMS author(s)NABATAME, ToshihideFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2018-05-09 22:11:42 +0900Updated at: 2024-03-05 12:20:37 +0900