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著者名FUKATA, Naoki, JEVASUWAN, Wipakorn, MITOME, Masanori, BANDO, Yoshio, Zhong Lin Wang.
タイトルCharacterization of selective doping and stress in Si/Ge and Ge/Si core-shell nanowires
(Si/GeおよびGe/Siコアシェルナノワイヤ中の選択ドーピングと応力評価 )
会議名28th International Conference on Defects in Semiconductors
発表年2015
言語English
外部での文献参照

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