HOME > Presentation > Detail強磁場プロセスを用いた配向性AlNの作製と耐照射性改善への期待鈴木 達, 打越 哲郎, 目 義雄. 平成19年度大洗研究会. September 06, 2007-September 07, 2007.NIMS author(s)SUZUKI, TohruUCHIKOSHI, TetsuoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:16:44 +0900 Updated at: 2017-07-10 20:00:51 +0900