HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Effect of Al and Al2O3 layers on the selective area growth of GeS thin films(GeS薄膜の選択成長におけるAl層およびAl2O3層の影響)ZHANG, Qinqiang, MATSUMURA, Ryo, FUKATA, Naoki. 2025年 第86回応用物理学会 秋季学術講演会. 2025年09月07日-2025年09月10日.NIMS著者松村 亮深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-11-11 03:10:38 +0900 更新時刻: 2025-11-11 03:10:38 +0900