HOME > 口頭発表 > 書誌詳細SiCl4の水素ラジカル 還元 による低温 Si 生成(Low temperature Si generation by the reduction of SiCl4 with hydrogen radical)岡本 裕二, 堤 大耀, 石垣 隆正, ダーマン ファティマ ゾーラ, 角谷 正友. 第78回応用物理学会秋季学術講演会. 2017.NIMS著者角谷 正友Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-04-03 22:36:48 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:17:33 +0900