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SiCl4の水素ラジカル 還元 による低温 Si 生成
(Low temperature Si generation by the reduction of SiCl4 with hydrogen radical)

著者岡本 裕二, 堤 大耀, 石垣 隆正, ダーマン ファティマ ゾーラ, 角谷 正友.
会議名第78回応用物理学会秋季学術講演会
発表年2017
言語Japanese

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