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SiCl4の水素ラジカル 還元 による低温 Si 生成
(Low temperature Si generation by the reduction of SiCl4 with hydrogen radical)

岡本 裕二, 堤 大耀, 石垣 隆正, ダーマン ファティマ ゾーラ, 角谷 正友.
第78回応用物理学会秋季学術講演会. 2017.

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    Created at :2018-04-03 22:36:48 +0900 Updated at :2018-06-05 14:17:33 +0900

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