HOME > Presentation > DetailSiCl4の水素ラジカル 還元 による低温 Si 生成(Low temperature Si generation by the reduction of SiCl4 with hydrogen radical)岡本 裕二, 堤 大耀, 石垣 隆正, ダーマン ファティマ ゾーラ, 角谷 正友. 第78回応用物理学会秋季学術講演会. 2017.NIMS author(s)SUMIYA, MasatomoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at :2018-04-03 22:36:48 +0900 Updated at :2018-06-05 14:17:33 +0900