Effect of substrate self-bias and nitrogen flow rate on non-polar AlN film growth by reactive sputtering
31st International Microprocess and nanotechnology Conference. 2018年11月13日-2018年11月16日.
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作成時刻: 2019-03-04 10:09:01 +0900 更新時刻: 2019-03-04 10:09:01 +0900