マスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析
(Development of Maskless Photolithography and Spatially Resolved Electronic State on Cu/Graphene Micro Structure)
2017年第64回応用物理学会春季学術講演会. 2017.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-19 04:39:58 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:35:42 +0900