マスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析
(Development of Maskless Photolithography and Spatially Resolved Electronic State on Cu/Graphene Micro Structure)
2017年第64回応用物理学会春季学術講演会. 2017年03月14日-2017年03月17日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-19 04:39:58 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:35:42 +0900