HOME > Presentation > Detailマスクレスフォトリソグラフィ装置の開発とCu/グラフェン微細素子における空間分解電子状態解析(Development of Maskless Photolithography and Spatially Resolved Electronic State on Cu/Graphene Micro Structure)丸山航平, 光畑遼一, 高橋良暢, 今野隼, 永村 直佳, 尾嶋正治, 小嗣真人. 2017年第64回応用物理学会春季学術講演会. March 14, 2017-March 17, 2017.NIMS author(s)NAGAMURA, NaokaFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-19 04:39:58 +0900Updated at: 2017-07-10 22:35:42 +0900