HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ITO/HfO2 MOSキャパシタのアニール雰囲気がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響(Effect of annealing ambient for ITO/HfO2 MOS capacitors on flatband voltage shift)山田 博之, 大石 知司, 生田目 俊秀, 知京 豊裕. 2011年春期(第148回)大会. 2011.NIMS著者生田目 俊秀知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:54:59 +0900更新時刻: 2018-06-05 12:54:03 +0900