Solid Phase Epitaxy of Rutile-Type GeO2 Films Under High Pressure

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柴田敬司, 野田涼太, KAWAMURA, Fumio, MIYAKAWA, Masashi, YUSA, Hitoshi, 山田直臣.

32nd International Workshop on Oxide Electronics (IWOE 32). 2026年09月27日-2026年09月30日.

作成時刻: 2026-10-28 03:07:21 +0900 更新時刻: 2026-10-28 03:07:21 +0900