HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Growth of stable amorphous silicon films by gas-flow-controlled RF plasma-enhanced chemical vapour deposition(ガス流制御RFプラズマCVD法による高安定アモルファスSi膜成長)NIIKURA, Chisato. 23rd Inter. Conf. Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors. 2009年08月24日-2009年08月28日.NIMS著者新倉 ちさとMaterials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:25:22 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:25:22 +0900