HOME > 口頭発表 > 書誌詳細EBIC法を用いた次世代Si系材料の研究-歪Si薄膜のミスフィット転位の観察・high-k膜のリーク評価関口 隆史. 第116回KASTECセミナー. 2007. 招待講演NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:38:01 +0900 更新時刻 :2024-03-05 11:41:25 +0900