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著者名関口 隆史.
タイトルEBIC法を用いた次世代Si系材料の研究−歪Si薄膜のミスフィット転位の観察・high-k膜のリーク評価
会議名第116回KASTECセミナー
発表年2007
言語Japanese
外部での文献参照

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