HCl gas etching of (010) and (001) β-Ga2O3 substrates for the fabrication of plasma-damage-free trenches and fins
Compound Semiconductor Week 2023. 2023年05月29日-2023年06月02日.
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作成時刻: 2023-06-09 09:58:05 +0900 更新時刻: 2023-06-09 09:58:05 +0900