MoS2 ウエハー上high-k 堆積で理想的な界面形成は可能か？
(Stability of high-k dielectric films deposited on MoS2 wafers)
第86回応用物理学会秋季学術講演会. 2025年09月07日-2025年09月10日.
NIMS著者
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作成時刻: 2025-09-18 03:12:51 +0900 更新時刻: 2025-09-18 03:12:51 +0900