HfO2 膜へのTaOx キャップ層形成による各界面層の変化
(Modification of each interface in TaOx-cap/HfO2/SiO2 stack structure)
2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.
NIMS著者
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作成時刻: 2018-09-27 10:22:58 +0900更新時刻: 2018-09-27 10:22:58 +0900