ハフニウム系絶縁膜材料の誘電率に対する窒素の効果：第一原理計算
(Effect of Nitrogen Doping on Dielectric Constant of Hafnium-Related Materials: A First-Principles Study)
2005年（平成17年）秋季第66回応用物理学会学術講演会. 2005.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 11:14:41 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:31:08 +0900