反応性スパッタ法を用いたMnS/Si (100)上への無極性AlN薄膜作製条件の検討
(Study on growth conditions of non-polar AlN film on MnS/Si (100) deposited by reactive sputtering )
第66回応用物理学会春季学術講演会. 2019.
NIMS著者
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作成時刻: 2019-07-13 03:00:20 +0900更新時刻: 2019-07-13 03:00:20 +0900