Effects of Interface Formation Process on Tunneling Current Components of N-type Ti0.3Zn0.7O1.3/P-type Si Stack Structure
2025 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices: Science and Technology (IWDTF 2025). 2025年11月05日-2025年11月07日.
NIMS著者
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作成時刻: 2025-12-09 03:12:01 +0900 更新時刻: 2025-12-09 03:12:01 +0900