HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ヘリウムイオン照射グラフェンの負の磁気抵抗(Negative Magnetoresistance of Helium-ion-irradiated Graphene)岩崎 拓哉, Gabriel Agbonlahor, Manoharan Muruganathan, 赤堀誠志, 守田佳史, 森山 悟士, 若山 裕, 水田博, 中払 周. 第79回春季応用物理学会学術講演会. 2018年09月18日-2018年09月21日.NIMS著者岩崎 拓哉若山 裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-07-21 16:40:11 +0900更新時刻: 2018-07-21 16:40:11 +0900