HOME > 口頭発表 > 書誌詳細レーザ基板加熱MOCVD法によるZnO薄膜の作製(ZnO film growth by MOCVD equipped with laser heating system)藤本英司, 角谷 正友, Mikk Lippmaa, 大西剛, 鯉沼秀臣. 2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会. 2006.NIMS著者角谷 正友Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:45:37 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:42:36 +0900