HOME > Presentation > Detailレーザ基板加熱MOCVD法によるZnO薄膜の作製(ZnO film growth by MOCVD equipped with laser heating system)藤本英司, 角谷 正友, Mikk Lippmaa, 大西剛, 鯉沼秀臣. 2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会. 2006.NIMS author(s)SUMIYA, MasatomoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:45:37 +0900Updated at: 2017-07-10 19:42:36 +0900