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レーザ基板加熱MOCVD法によるZnO薄膜の作製
(ZnO film growth by MOCVD equipped with laser heating system)

著者藤本英司, 角谷 正友, Mikk Lippmaa, 大西剛, 鯉沼秀臣.
会議名2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会
発表年2006
言語Japanese

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