Hydrogen-boron complexes in heavily boron doped silicon treated with high concentration of hydrogen atoms
(高濃度水素原子処理された高濃度ボロンドープシリコン中の水素－ボロン複合体)
The 23rd International conference on defects in semiconductors. 2005.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2022-09-05 11:43:08 +0900更新時刻: 2022-09-05 11:43:08 +0900