低温NO酸窒化により形成した極薄SiO2/SiC界面特性評価
(Characterization of Ultrathin SiO2/SiC Interfaces Fabricated by Low-temperature NO Oxynitridation)
第86回 応用物理学会 秋季学術講演会. 2025年09月07日-2025年09月10日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900 更新時刻: 2025-09-30 03:14:27 +0900