HOME > 口頭発表 > 書誌詳細強磁場コロイドプロセスを用いたB4C中の細孔と結晶の方位制御鈴木 達, 東 翔太, 打越 哲郎, 吉田 克己. 2019年度秋季大会（第124回講演大会）. 2019年10月22日-2019年10月24日.NIMS著者鈴木 達打越 哲郎Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2019-11-20 09:49:46 +0900 更新時刻: 2019-11-20 09:49:46 +0900
