Impacts of oxidant selection and oxidant exposure time in ALD growth on crystallization of as-deposited HZO thin films
2025 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices –Science and Technology– (IWDTF 2025). 2025年11月05日-2025年11月07日.
NIMS著者
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作成時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900 更新時刻: 2026-06-18 03:06:26 +0900